1、真空鍍膜技術是一項新興的技術，國際上直到60年代才開始將CVD(化學氣相鍍膜)技術應用到硬質合金工具中。因為這種方法需要在高溫(工藝溫度高于1000ºC)下進行，且涂層類型單一，局限性很大，所以在開發初期還有待改進。

2、離子鍍膜的基本原理：在真空條件下，采用一定的等離子體離子化技術，使鍍層原子部分離子化，同時產生大量高能中性原子，并在鍍層表面施加負偏壓。因此，在深度負偏壓作用下，離子沉積在基體表面形成薄膜。

3、PVD是一種物理氣相沉積法，它分為：真空蒸發法、真空濺射法和真空離子法。PVD鍍膜通常指的是真空離子鍍膜;NCVM鍍膜通常指的是真空蒸發鍍膜和真空濺射鍍膜。

4、真空鍍的基本原理：在真空條件下，金屬、金屬合金等被蒸發蒸發，然后沉積到基體表面，蒸發法通常采用電阻加熱，電子束轟擊鍍料，使其蒸發成氣相，然后沉積到基體表面，PVD法歷史上很早采用真空蒸鍍技術。

5、濺射鍍膜的基本原理：充氬(Ar)氣的真空環境中，當氬(Ar)原子被電離，形成氬離子(Ar)時，氬離子在電場力的作用下，加速轟擊用鍍料制成的陰極靶，靶將濺射出來并沉積在工件表面。濺射膜中的入射離子，一般是通過輝光放電獲得的，在l0-2Pa~10Pa范圍內，因此濺射出的粒子在飛向基體時，容易與空氣中的氣體分子發生碰撞，使其運動方向隨機，沉積的薄膜容易均勻。

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