青島真空鍍膜加工設備完成真空鍍膜過程其工藝之多非常復雜，真空鍍膜加工原理有不同可分很多種類，因為真空鍍膜加工工作環境要要求高真空度而擁有統一名稱。所以對于不同原理的真空鍍膜加工，影響均勻性的因素也不盡相同。 并且均勻性這個概念本身也會隨著鍍膜尺度和薄膜成分而有著不同的意義。我下面分別說一下：

真空鍍膜加工均勻性的概念：

1.厚度上的均勻性，也可以理解為粗糙度，在光學薄膜的尺度上看（也就是1/10波長作為單位，約為100A），真空鍍膜加工均勻性已經相當好，可以輕松將粗糙度控制在可見光波長的1/10范圍內，也就是說對于薄膜的光學特性來說，真空鍍膜加工沒有任何障礙。 但是如果是指原子層尺度上的均勻度，也就是說要實現10A甚至1A的表面平整，是現在真空鍍膜加工中主要的技術含量與技術瓶頸所在，具體控制因素下面會根據不同鍍膜給出詳細解釋。

2.化學組分上的均勻性： 就是說在薄膜中，化合物的原子組分會由于尺度過小而很容易的產生不均勻特性，SiTiO3薄膜，如果鍍膜過程不科學，那么實際表面的組分并不是SiTiO3，而可能是其他的比例，鍍的膜并非是想要的膜的化學成分，這也是真空鍍膜加工的技術含量所在。 具體因素也在下面給出。

3.晶格有序度的均勻性： 這決定了薄膜是單晶，多晶，非晶，是真空鍍膜加工技術中的熱點問題，具體見下。

主要分類有兩個大種類： 蒸發沉積鍍膜和濺射沉積鍍膜，具體則包括很多種類，包括真空離子蒸發，磁控濺射，MBE分子束外延，溶膠凝膠法等等。