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真空鍍膜設(shè)備蒸發(fā)鍍?cè)?/h1>
發(fā)表時(shí)間:2019/10/12 14:39:43

回顧下蒸發(fā)鍍膜法的由來(lái):在1960年湃澎霍夫?qū)@一方面的研究提出使用,其原理是利用密封的設(shè)備把潔凈的耙材進(jìn)行電阻加熱到蒸發(fā)的溫度以上,在真空環(huán)境下均勻的沉積在產(chǎn)品表面達(dá)到預(yù)定要求的過(guò)程。在蒸發(fā)的過(guò)程中可以根據(jù)所需工藝要求改變蒸發(fā)的速度和電流等。

真空蒸發(fā)鍍膜從開始到結(jié)束需經(jīng)過(guò)以下流程:

一、利用大電流產(chǎn)生高熱能融化膜材使之升華或者蒸發(fā)成為具有能量的氣態(tài)粒子;

二、升華或蒸發(fā)后的能量粒子離開膜材并輸運(yùn)到待鍍產(chǎn)品;

三、到達(dá)待鍍產(chǎn)品后的能量粒子凝聚在產(chǎn)品表面并固化成薄膜;

薄膜原子重組排列完成覆膜。

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