離子真空鍍膜技術在模具制品的應用：真空離子電鍍可區分為：多弧離子鍍膜、蒸發源離子鍍膜、濺射離子鍍膜及同基合金離子鍍。
 
1.多弧離子鍍膜(多弧離子真空鍍膜設備)
 
與常規的表面處理技術相比，應用于模具的多弧離子鍍的優點是鍍層均勻，、鍍材金屬離化率高，適于鍍各種形狀的工件；其缺點是鍍層表面光潔度低。多弧離子鍍是采用電弧放電直接蒸發靶材，而鍍材則加工成陰極靶接電源負極，底座接正極。工作時，將鍍層空氣抽至10-2Pa，然后通入氬氣或其他氣體，恢復壓強到0．1～10．0 Pa，觸發電路引發電弧放電。
 
2.蒸發源離子鍍(蒸發真空鍍膜設備)
 
蒸發源離子真空鍍膜技術的優點是鍍層繞鍍能力強，附著性好，組織致密。蒸發源離子鍍是在真空蒸鍍的基礎上，將真空室抽至低壓(10-2～10-3Pa)，然后通入氬氣，提高壓強到1～10 Pa，蒸發源用電阻加熱，基材接1～5 kV的負偏壓，使氬氣產生輝光放電，從而形成低溫等離子體區，使模具鍍材表面原子電離，從而形成蒸發源離子鍍的形核并完成離子鍍膜層[1,4]。
 
3. 濺射離子鍍（磁控濺射真空鍍膜設備）
 
應用于模具的濺射離子真空鍍膜技術較常規表面處理技術具有更高的沉積率。濺射離子鍍是把鍍材制成陰極靶，輝光發電后經氬離子轟擊，鍍材原子濺射出來，原子或離子沉積于基材上完成離子鍍。
 
4. 同基合金離子鍍
 
與常規的表面處理技術相比，同基合金離子真空鍍膜技術具有結合強度好、無畸變、節能等優點。同基合金離子鍍適合于靶材與基材元素相同的條件，是利用氬氣輝光放電使弧電源將靶材產生的粒子束沉積于工件表面的技術。