真空電鍍是真空鍍膜工藝的一項新發展。真空電鍍當高溫蒸發源通電加熱后，真空電鍍促使待鍍材料—蒸發料熔化蒸發。真空電鍍蒸發料粒子獲得一定動能，真空電鍍則沿著視線方向徐徐上升，真空電鍍附著于工件外表上堆積成膜。真空電鍍用這種工藝形成的鍍層，真空電鍍與零件外表既無牢固的化學結合。

真空電鍍的簡單作用過程：真空電鍍接通蒸發源交流電源，真空電鍍蒸發料粒子熔化蒸發，真空電鍍進入輝光放電區并被電離。真空電鍍帶正電荷的蒸發料離子，陰極吸引下，隨同氬離子一同沖向工件，真空電鍍當拋鍍于工件表面上的蒸發料離子逾越濺失離子的數量時，真空電鍍則逐漸堆積形成一層牢固粘附于工件表面的鍍層。

真空電鍍工藝則有所不同，真空電鍍是真空罩內進行的但這時鍍膜過程是以電荷傳遞的形式來實現的，真空電鍍蒸發料的粒子作為帶正電荷的高能離子在高壓陰極(即工件)吸引下，真空電鍍以很高的速度注入到工件表面。